薬液供給装置
連続式 P112
温度・流体の制御 / 薬液供給装置
- 製品概要
- CMP装置に予め決められた濃度の薬液を供給するためのもので2種2系統を供給する機能を有する装置です。
- 用途
- 半導体製造装置
仕様
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型式
P112
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希釈液
ＮＨ４０Ｈ、Ｈ２Ｏ２、ＨＦ、ＤＩＷ
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希釈液流量
2.2Ｌ/min max 2系統
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希釈時間
1分/2.2Ｌ
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供給圧力
0.2MPa max
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電源
単相100V～240Ｖ±10%、15A
キャニスタユニット P82
温度・流体の制御 / 薬液供給装置
- 製品概要
- 酸系2薬液アルカリ系1薬液の原液コンテナを収納しN2による加圧圧送により原液を供給するための装置です。
- 用途
- CMP装置の原液供給
仕様
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フィルター
カプセルフィルター 0.1 ミクロン ポリスルホン製
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薬液
酸系 H2O2, HF アルカリ系 NH4OH
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バルブ
エアオペレートバルブ PTFE
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排気
ダンパー､マノメータ内蔵
（外部サイト IPROS）
添加剤滴下装置 P101
温度・流体の制御 / 薬液供給装置
- 製品概要
- 本装置は添加剤を切削水に混合する為の装置です
- 用途
- ダイシング装置
仕様
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型式
P10A
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DIW
1～5L/min
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添加剤調整範囲
2.4～12mL/min