純水加温装置
超純水加温装置 HDW-III
製品概要
カーボンヒーターを使用した効率的な超純水の加温が行える装置です。長寿命ヒーターを採用しています。
用途
Siウエハ、化合物半導体の洗浄、液晶ガラス基板の洗浄、マスクの洗浄、ハードディスク基板の洗浄
仕様
| 型式 | HDW-III 4機種（-12, -18, -24, -36） |
|---|---|
| 標準流量※機種により異なります。 | 12L/min～36L/min |
| 最高設定温度 | 85℃ |
| 電源 (ヒーター用)※機種により異なります。 | 3相 AC200V 150A～225A×2 |
|---|---|
| 電源(制御用) | 単相 AC200V 5A |
| 加温機数※機種により異なります。 | 2～6 |
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