温度・流体の制御 / 薬液供給装置

連続式 P112

製品概要

CMP装置に予め決められた濃度の薬液を供給するためのもので2種2系統を供給する機能を有する装置です。

用途

半導体製造装置

仕様

型式 P112
希釈液 NH40H、H2O2、HF、DIW
希釈液流量 2.2L/min max 2系統
希釈時間 1分/2.2L
供給圧力 0.2MPa max
電源 単相100V~240V±10%、15A
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